技術用語集

エキシマレーザとは、気体レーザの一種で、Ar（アルゴン）、Kr（クリプトン）、Xe（キセノン）といった希ガスとハロゲンなどの混合ガスを用いて強い紫外領域の光を発生させることのできる装置です。

シリサイドとは、シリコンと金属を反応させてできる化合物の総称で、耐熱性や耐酸化性といった特性を向上させることができます。パワーデバイスではレーザアニールによる熱処理を用いてSiやSiCウェハーの裏面にシリサイド層を形成し、オーミックコンタクトとするプロセスが採用されています。

パワーデバイスとは、高電圧・大電流を効率よく制御する半導体素子の総称で、電気自動車、産業機器などの電力変換に用いられます。
近年では電気自動車向けのインバーターシリコンカーバイト（SiC）を基材とするSiCパワーデバイスが注目を集めています。

パワーモジュールとは、複数のパワーデバイスを組み合わせた回路を1つのパッケージに集積した製品のことです。主に電力の変換や制御に使用され、効率的な電力管理が可能となるため、モーター制御、工作機械など様々な機器に使用されています。

レーザアニールとは、レーザ光を用いて半導体ウェハーやガラス基板の表面だけを高温にして結晶構造を変化させることで特性や性能を向上させるプロセスのことです。レーザの波長や出力から処理範囲や表層の侵入深さも変えられ、高精度な処理制御が可能なため、結晶化、合金化、活性化といった幅広い処理工程に採用されています。

LTPS（低温多結晶シリコン）とは、TFT技術の一つでポリシリコン層を低温で形成する技術です。
アモルファスシリコンTFTと比べて10倍以上の電子移動度を確保できることから、高速の画素スイッチングを達成することができます。

OLED（有機EL）とは、電圧をかけると有機物が発光する現象（有機EL）を利用した発光ダイオードのことです。
液晶ディスプレイ（LCD）とは異なりバックライトが不要なため薄型・軽量化が可能であり、高コントラスト、省電力などの特長があります。

SiCウェハーとは、シリコン（Si）と炭素（C）から生成された半導体基板です。従来のSiウェハーと比較すると、高温で安定する、高耐圧、熱伝導率が高いといった特長があり、主に電力エレクトロニクス・自動車・通信産業で利用されています。

Si活性化とは、シリコンの中に不純物原子を導入し、ヒーターやランプ、レーザなどを用いて熱処理（アニール）することで、電気的に活性化させて電子または正孔を生成できる状態にするプロセスです。

TFT液晶とは、薄膜トランジスタ（TFT）を使用した液晶ディスプレイの一種です。
アクティブマトリックス方式と呼ばれる駆動方式でディスプレイ上の各画素（ピクセル）をオン・オフ制御し、従来の液晶ディスプレイ（LCD）と比べて応答速度が速くコントラスト比が高いなどの特長があります。