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Ion Implantation and Annealing Technology 2026 出展のお知らせ

このたび弊社は、2026年9月20日（日）から2026年9月24日（木）まで、オーストリア・フィラッハ（Villach）で開催される第25回国際会議「Ion Implantation and Annealing Technology 2026（IIT 2026）」に出展いたします。
弊社は、これまで培ってきたレーザ応用技術を生かし、Si・SiCパワー半導体の製造プロセスおよび次世代デバイスの研究開発を支援する装置・ソリューションを提供しています。

主な出展内容

半導体用レーザ応用装置 >>

本展示会では、次世代半導体や新材料のプロセス開発を支援するレーザ応用装置をご紹介いたします。
結晶化、活性化、シリサイド化をはじめとする各種レーザプロセスの基礎評価や条件検証にご活用いただけるほか、お客さまの研究テーマや処理対象に応じた装置仕様についてもご相談を承ります。
展示会当日は、弊社スタッフが装置やプロセスに関するご質問・ご相談を承ります。
ぜひ弊社ブースへお立ち寄りください。

出展概要

• 展示会名：Ion Implantation and Annealing Technology 2026（IIT2026） 
• 会期：2026年9月20日（日）～2026年9月24日（木）
• 会場：Congress Center Villach, Villach, Austria （オーストリア・ヴィラッハ）
• ブース番号：No.10
• 入場方法：ご来場には事前登録が必要です。以下ページよりご登録ください。
  事前登録：https://www.iitvillach2026.com/registration/
• 展示会公式サイト：https://www.iitvillach2026.com/

皆様のご来場を心よりお待ちしております。